ケイ化チタン(チタンケイ化物, Titanium Silicide,TiSi2)の特徴と仕様

ケイ化チタン(チタンケイ化物, Titanium Silicide,TiSi2)の特徴と仕様

ケイ化チタン(チタンケイ化物, Titanium Silicide,TiSi2)は、チタン(Titanium)とシリコン(Silicon)の無機化合物です。ケイ化チタン(Titanium Silicide)は、チタンまたは水素化チタン(titanium hydride)とシリコン(Silicon)の反応から得られます。これは、通常、ローカルトランジスタ接続のシート抵抗を減らすためにシリコンおよびポリシリコンラインにサリサイド技術を使用して成長します。マイクロエレクトロニクス業界では、一般的にC54段階で使用されます。

ケイ化チタン(チタンケイ化物, Titanium Silicide,TiSi2)は半導体産業で使用されています。これは、通常、ローカルトランジスタ接続のシート抵抗を減らすために、シリコンおよびポリシリコンのラインにサリサイド技術を利用して製造されます。ケイ化チタンスパッタリングターゲットは、高硬度、低摩耗、耐衝撃性、および熱衝撃の有用な特性のためにハードウェアコーティングに使用される優れた材料です。

ケイ化チタン(Titanium Silicide)は、ハードウェアコーティング、半導体、光学などの領域に使用されます。 ケイ化チタンは、低い抵抗率、高い温度抵抗、および優れた安定性の利点を持ち、マイクロエレクトロニクス、航空高温抵抗材料、コーティング材料などの分野で広く使用されています。

ケイ化チタンは、低抵抗、優れた熱安定性、およびシリコンプロセスとの互換性により、超大型集積回路(ULSI、Ultra-Large-Scale Integrated circuits)に適用するために考慮される最初の数少ないシリコンです。 化合物の一つです。 シリコンベースのデバイスにケイ化チタン(Titanium Silicide)を使用するには2つの方法があります。 ポリサイドゲート電極/相互接続および自己整合サリサイドプロセスのコンタクト/相互接続があります。

TiSi2 (C49) 製のナノネットは、表面積が大きく、電気伝導性に優れているという点で、より一般的に使用されている多孔質炭素に似ています。ナノネットの主な独自性は、その形態が明確に定義されているため、さまざまなヘテロナノ構造を設計およびテストできることです。本質的に、TiSi2 ナノネットは、幅広い用途の電極を構築するための電荷コレクターおよび機械的サポートとして機能します。 Siと組み合わせると、優れた性能を持つアノードが得られることを示しています。同様に、高性能カソードは、TiSi2–V2O5 の組み合わせによって可能になります。

 

クロム(Chromium)とシリコン(Silicon)の特性

クロム(原子記号:Cr、原子番号:24)は、ブロックD、6族、4周期元素で原子量51.9961です。クロムシェルの電子数は2、8、13、1、電子配列は(Ar)3d5 4s1です。 Louis Nicolas Vauquelinは1797年に初めてクロムを発見し、翌年初めて分離しました。クロム原子の半径は128pm、ファンデルワールスの半径は189pmです。元素状のクロムは光沢のあるスチールグレーの外観を持っています。元素クロムは周期律表で最も硬い金属元素であり、室温で反強磁性秩序を示す唯一の元素であり、それ以上では常磁性固体に変形します。クロムの最も一般的な供給源はクロムライト(FeCr2O4)です。

チタン(原子記号:Ti、原子番号:22)は、原子量47.867のブロックD、4族、4周期元素です。チタンの各シェルの電子数は(2、8、10、2)、電子配列は(Ar)3d2 4s2です。チタン原子の半径は147pm、ファンデルワールスの半径は187pmです。チタンは1791年にWilliam Gregorによって発見され、1825年にJöns Jakob Berzeliusによって最初に分離されました。元素の形のチタンは銀色の灰白色の金属の外観を持っています。チタンの性質は化学的、物理的にジルコニウムと似ており、両方とも同じ数の原子価電子を持ち、周期律表で同じ族に属します。 Elemental TitaniumTitaniumは46Tiから50Tiまでの5つの自然発生同位体を有し、48Tiが最も豊富です(73.8%)。チタンは火成岩とそれから派生した堆積物に見られます。

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