二硫化タングステン（Tungsten Disulphide, ケイ化タングステン,WS₂）の特性と用途

二硫化タングステン（Tungsten Disulphide, ケイ化タングステン,WS₂）の特性と用途

二硫化タングステン（Tungsten Disulphide, WS₂）は、化学式WS2のタングステン（Tungsten）と硫黄（sulfur）で構成された無機化合物です。この化合物は、遷移金属デカールコゲニド（dichalcogenides）と呼ばれる物質のグループの一部です。

この物質は、水素化脱硫（hydrodesulfurization）と水素化脱（hydrodenitrification）に使用される特定の触媒物質です。二硫化タングステン（Tungsten Disulphide）は、三角プリズム配位区に位置するタングステン（Tungsten）原子の代わりにMoS2と類似または同型である階層構造を持ちます。この層状構造によりタングステン（Tungsten）は、無機ナノチューブを形成します。

単層二硫化タングステン(Tungsten Disulphide, ケイ化タングステンWS₂)成長のために広く使用されている技術には、化学気相蒸着(CVD)、物理的気相蒸着(PVD)または金属有機化学気相蒸着(MOCVD)が含まれていますが、現在のほとんどの方法では、1×1013cm-2を超える黄欠損を生成します。 他の経路はタングステン（VI）硫化物（VI）sulfides）（例:（R4N）2WS4）又はこれに相応するもの（例:WS3）の熱分解を伴います。 独立型二硫化タングステン(Tungsten Disulphide)フィルムは次のように製作できます。 二硫化タングステン(Tungsten Disulphide)は、サファイアのような親水性基板に蒸着された後、ポリスチレンのようなポリマーでコーティングされます。 また、水に数分間浸すと、硫化タングステン(Tungsten Disulphide)フィルムが自然にはがれます。

二硫化タングステン（Tungsten Disulphide, ケイ化タングステン,WS₂）の利用

二硫化タングステン（Tungsten Disulphide, WS₂）は、他の物質と一緒に、原油の水素化処理のための触媒として使用されます。 Lamellarジスルフィドタングステン（Tungsten Disulphide）はファスナー、ベアリング、および金型の乾式潤滑剤として使用され、航空宇宙および軍事産業で重要な用途に使用されます。二硫化タングステン（Tungsten Disulphide）は、高速空気衝突を介して結合剤または硬化せず、金属の表面に適用することができます。

ナノチューブ（Nanotubes）

二硫化タングステン（Tungsten Disulphide, ケイ化タングステン,WS₂）は、1992年に無機ナノチューブを形成することで明らかになった最初の物質です。この能力は、二硫化タングステン（Tungsten Disulphide）の階層構造と関連があり、巨視的な量の二硫化タングステン（Tungsten Disulphide）が生成されました。二硫化タングステン（Tungsten Disulphide）ナノチューブは、高分子ナノ複合体の機械的性質を向上させるための硬化剤として研究されてきました。研究でジスルフィドタングステン（Tungsten Disulphide）ナノチューブ強化ポリプロピレンフマレート（PPF）の生分解性高分子ナノ複合体は、単一壁および複数壁カーボンナノチューブ強化PPFナノ複合体と比較して、ヤング率、圧縮降伏強度、曲げ弾性率、および曲げ降伏強度の大幅な増加を示しました。

ナノシート（Nanosheets）とトランジスタ（Transistors）

二硫化タングステン（Tungsten Disulphide, WS₂）は原子的に薄いシート状でも存在することができます。これらの物質は、断層の限界で室温光発光を示します。 TSMC（Taiwan Semiconductor Manufacturing Company）は、電界効果トランジスタのチャネル材料として二硫化タングステン（Tungsten Disulphide）の使用を検討しています。約6層の厚さの材料は、化学気相蒸着（CVD）を使用して作成されます。

二硫化タングステン(Tungsten Disulphide, WS₂)の規格と仕様

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